[채용/모집] 도쿄일렉트론코리아 Etch 공정 프로세스 엔지니어 신입 및 경력 채용건
- 신소재공학부
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- 2024-08-05
(자격 요건)
- 수도권 공과대 4년제 학부 성적 3.7이상 소유자 및 석박사 졸업 및 졸업 예정자
- 전자공학과/화학공학과/재료공학과/신소재공학과 출신 우대
- 반도체 Etch Process 경력 보유자 우대
- 일본어 가능자 우대
(업무내용)
- TEL Etch process 평가 진행, (초저온 Etch 공정, Hard mask Etch 공정 등)
- NAND FLASH, DRAM 제품의 Etch 공정 개발
- 정기적으로 일본 본사와의 업무 교류 및 일본 본사 연구소 출장 업무 수행
(근무지)
- 2026년 2분기까기 발안 근무 (TTCK-W: TEL Technology Center Korea West)
- 2026년 3분기부터 용인 근무 (용인클러스터내로 신규 연구소(TTCK-Y) 건립 후 이동)
(채용관련 연락처)
- 홍서익 Etch공정 매니저 : si.hong@tel.com , 010-7221-4436